概要
金属酸化物の半導体薄膜（ZnO、CuO、NiOなど）を主な研究対象としています。 金属の酸化には、水や大気中の酸素を使うことができるので、酸化物半導体は作りやすい半導体材料です。 私たちは、なるべく簡便な装置で簡潔に作ろうということをコンセプトにして研究しています。 また、金属酸化物半導体の関連で、金属水酸化物（例えば、Ni(OH)2）についても研究しています。 一般的には半導体材料とは認識されていませんが、私たちは金属水酸化物を半導体としてとらえて研究しています。
キーワード
「半導体薄膜」、「酸化物半導体」、「金属水酸化物」、「電気化学堆積」、「ゾルゲル法」
場所
部屋は６号館の7階にあります。718室とその周辺の部屋になります。
連絡先
気軽にコンタクトをとってください。見学も可能です。abe[at]nitech.ac.jp